| 发明名称 | 制备不透气层的设备和方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及制备不透气层的设备和方法，特别涉及制备不透气合成材料基材涂层的设备和方法。使用所述设备或所述方法，仅用一种溅射设备即可制备可透光的以及不可透光的气体阻挡层。并可进行从一种供气如氩气到第二种供气如氩气、氧气和氮气的简单转换，或进行相反的转换过程。 | ||
| 申请公布号 | CN1730717A | 申请公布日期 | 2006.02.08 |
| 申请号 | CN200410061544.5 | 申请日期 | 2004.12.24 |
| 申请人 | 应用薄膜有限公司 | 发明人 | 托马斯·黑格曼;伊丽莎白·佐默 |
| 分类号 | C23C14/34(2006.01);C23C14/14(2006.01);C23C14/20(2006.01) | 主分类号 | C23C14/34(2006.01) |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 郭国清;樊卫民 |
| 主权项 | 1.一种制备不透气层的设备，特别是制备不透气合成材料基材涂层的设备，其特征在于：a)具有至少一个铝靶(31、32)的真空溅射室(30)；b)至少两个气体容器(37、38)，其通过至少一个可被关闭的气体进入管线(43～45)与真空溅射室(30)连接。 | ||
| 地址 | 联邦德国阿尔策瑙 | ||