发明名称 |
化学抛光方法、经该方法抛光的玻璃基板及化学抛光装置 |
摘要 |
本发明提供一种能使液晶玻璃基板循环再利用、对于液晶玻璃基板进行化学抛光的方法及化学抛光装置。所使用的化学抛光液由氢氟酸及其盐的混合液(其中的氢氟酸盐为氟化铵、氟化钾和氟化钠中的任一种或者多种),盐酸、硫酸、磷酸和硝酸等无机酸的一种或多种,醋酸和琥珀酸等有机酸的一种或者其混合物,磺酸盐类阴离子表面活性剂以及胺类两性表面活性剂组成。 |
申请公布号 |
CN1724432A |
申请公布日期 |
2006.01.25 |
申请号 |
CN200510083327.0 |
申请日期 |
2002.04.11 |
申请人 |
西山不锈化学股份有限公司 |
发明人 |
西山智弘;出口干郎;丝川胜博;小谷诚;沟口幸一 |
分类号 |
C03C15/00(2006.01);G02F1/1333(2006.01) |
主分类号 |
C03C15/00(2006.01) |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 |
代理人 |
王健 |
主权项 |
1.化学抛光方法,是将玻璃基板浸渍在储槽内的化学抛光液中而抛光该玻璃基板的外表面的化学抛光方法,其特征在于,将所述玻璃基板纵向保持在所述化学加工液中,利用所述化学抛光液中产生的气泡生成上升液流,一边从所述储槽溢出所述化学抛光液,一边以10μm/分以下的抛光速度进行抛光。 |
地址 |
日本大阪府 |