| 主权项 |
1.一种检测大尺寸镀膜晶片之光谱仪,其系包括: 一光谱仪本体,该光谱仪本体系包含有一底座,该 底座底面设置有数个支撑脚,该底座上设有一结合 柱,于结合柱上设有一悬于底座上方的发射臂,其 中该发射臂上设有一与底座相对的光源发射头; 一晶片框架,该晶片框架系可移动地设置于底座上 于晶片框架上设置有一贯穿晶片框架的中空部,而 在中空部内面设有一托片框,另在中空部上设置有 数个与中空部连通的凹槽; 一发光装置,该发光装置一端系以一光纤与发射臂 上的发射头相接,而另一端连接有一电源;以及 一接收装置,该接收装置一端为一用以接收发射头 所发射光源的接收器,并且接收器系穿设在底座相 对应于发射头的位置上,而接收装置的另一端系连 接有一主机。 2.如申请专利范围第1项所述之检测大尺寸镀膜晶 片之光谱仪,其中各支撑脚之高度相同。 3.如申请专利范围第2项所述之检测大尺寸镀膜晶 片之光谱仪,其中在底座异于设置结合柱的一端面 上设有一刻度尺,系作为检测晶片时的参考点。 4.如申请专利范围第3项所述之检测大尺寸镀膜晶 片之光谱仪,其中结合柱的顶部端面上设有两结合 柱固定孔,且发射臂上设有两分别与两结合柱固定 孔相对的发射臂固定孔,并设置有两分别穿过两发 射臂固定孔而与两结合柱固定孔相结合的固定元 件。 5.如申请专利范围第4项所述之检测大尺寸镀膜晶 片之光谱仪,其中固定元件为螺栓。 6.如申请专利范围第5项所述之检测大尺寸镀膜晶 片之光谱仪,其中该底座具系有四个支撑角。 7.如申请专利范围第6项所述之检测大尺寸镀膜晶 片之光谱仪,其中中空部系位于晶片框架的中心。 8.如申请专利范围第7项所述之检测大尺寸镀膜晶 片之光谱仪,其中凹槽系与晶片框架的角相对应。 9.如申请专利范围第1项所述之检测大尺寸镀膜晶 片之光谱仪,其中在底座异于设置结合柱的一端面 上设有一刻度尺,系作为检测晶片时的参考点。 10.如申请专利范围第1项所述之检测大尺寸镀膜晶 片之光谱仪,其中结合柱的顶部端面上设有两结合 柱固定孔,且发射臂上设有两分别与两结合柱固定 孔相对的发射臂固定孔,并设置有两穿过两发射臂 固定孔而与两结合柱固定孔相结合的固定元件。 11.如申请专利范围第10项所述之检测大尺寸镀膜 晶片之光谱仪,其中固定元件为螺栓。 12.如申请专利范围第1项所述之检测大尺寸镀膜晶 片之光谱仪,其中该底座具系有四个支撑角。 13.如申请专利范围第1项所述之检测大尺寸镀膜晶 片之光谱仪,其中中空部系位于晶片框架的中心。 14.如申请专利范围第1项所述之检测大尺寸镀膜晶 片之光谱仪,其中凹槽系与晶片框架的角相对应。 图式简单说明: 第一图系本创作光谱仪之立体图。 第二图系本创作光谱仪本体分解立体图。 第三图系本创作配合不同尺寸的晶片框架之示意 图。 第四图系现有光谱仪操作之立体示意图。 |
