发明名称 氮化镓系半导体装置
摘要 一种具有p型层之氮化镓系半导体装置,该p型层系含有p型杂质并展现出p型导电型之氮化镓(GaN)化合物半导体层。该p型层包含顶部分和位在顶部分下方之内部分。该内部分含有p型杂质并有氢合并于内。该顶部分包含含有非化学计量原子比之III族元素和V族元素之区域。
申请公布号 TW200601588 申请公布日期 2006.01.01
申请号 TW094106526 申请日期 2005.03.04
申请人 昭和电工股份有限公司 发明人 小早川真人;友泽秀喜;三木久幸
分类号 H01L33/00 主分类号 H01L33/00
代理机构 代理人 何金涂;何秋远
主权项
地址 日本