发明名称 真空装置
摘要 一种运用于半导体制造领域,可抑制耗电量的真空装置。此真空装置具备:真空容器10、11、12、13、14、15,设有气体导入口与气体排出口;至少1段的真空帮浦,将真空容器内部进行减压或保持在减压状态;及压缩机4c、5c、6c、7c、8c、9c,与真空帮浦中之最终段的真空帮浦4b、5b、6b、7b、8b、9b的排出埠相连接,可将输入侧进行减压。
申请公布号 TW200537025 申请公布日期 2005.11.16
申请号 TW094104683 申请日期 2005.02.17
申请人 大见忠弘 发明人 大见忠弘
分类号 F04B41/02 主分类号 F04B41/02
代理机构 代理人 周良谋
主权项
地址 日本