吡唑并嘧啶酮类的新型制备方法

摘要

本发明提供了一种通式(I)化合物的生产方法，其中A、R¹、R²、R³和R⁴具有本说明书中给定的含义，该方法包括使通式(II)的化合物脱氢的步骤。

主权项

1.通式I化合物的生产方法：其中A代表CH或N；R¹代表H、低级烷基(该烷基可以被O打断或不被O打断)、Het、烷基Het、芳基或烷基芳基，后5种基团均可以被一个或多个选自卤素、氰基、硝基、低级烷基、OR⁵、C(O)R⁶、C(O)OR⁷、C(O)NR⁸R⁹、NR^10aR^10b和SO₂NR^11aR^11b的取代基所取代或不被它们取代(就低级烷基而言和/或可以被它们封端或不被它们封端)；R²和R⁴独立地代表低级烷基；R³代表低级烷基，该烷基可以被氧打断或不被氧打断；Het代表可以取代或不被取代的4-12-元杂环基，该基团含有一个或多个选自氮、氧和硫的杂原子；R⁵、R⁶、R⁷、R⁸、R⁹、R^11a和R^11b独立地代表H或低级烷基；R^10a和R^10b独立地代表H或低级烷基或与它们所连接的氮原子一起代表氮杂环丁烷基、吡咯烷基或哌啶基；该方法包括使通式II的化合物脱氢的步骤；其中通式II的结构式如下：其中A、R¹、R²、R³和R⁴如上述所定义。