A method of manufacturing an integtated circuit using chemical mechanical polishing and a chemical mechanical polishing system,申请号KR19980050349-传众专利搜索

发明名称	A method of manufacturing an integtated circuit using chemical mechanical polishing and a chemical mechanical polishing system
摘要
申请公布号	KR100495717(B1)	申请公布日期	2005.09.30
申请号	KR19980050349	申请日期	1998.11.24
申请人		发明人
分类号	H01L21/77;(IPC1-7):H01L21/77	主分类号	H01L21/77
代理机构		代理人
主权项
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