超薄介电层之电浆处理及蚀刻方法

摘要

本发明提供一种介电层之乾蚀刻方法。先提供基材，接着在基材上形成至少一覆盖介电层。然后对覆盖介电层进行电浆氧化制程，并且对覆盖介电层进行电浆蚀刻制程。