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1.一种新颖之聚矽氧烷基嵌段共聚物,其特征在于下式T(AB)xAT (I)其中A=(SiR'R"O)nSiR'R"-,其中R'和R"为相同或不同,代表低级烷基或苯基,该烷基或苯基可以被取代或不被取代:B为如下式之聚氧化烷撑而T为其中R为氢,低级烷基、或苯基;R1为氢或低级烷基;y为2-6;m为3-30;n为5-3000;而x为0-100。2.如申请专利范围第1项之嵌段共聚物,其中式(I)中之R'和R"各为甲基;y为2;而R为氢、甲基、或苯基。3.如申请专利范围第1或第2项之嵌段共聚物,其中于式(I)中之B为而T为4.一种制备如申请专利范围第1项聚矽氧烷基嵌段共聚物(I)之方法,其特征在于式(II)之聚矽氧烷其中R'和R"为相同或不同,代表低级烷基或苯基,该烷基或苯基可以为已被取代或未被取代者;在有触媒存在中与式(IIIa)和(IIIb)之聚烷撑氧化物反应其中,R,R1,n和m与申请专利范围第1项所界定者相同。5.如申请专利范围第4项之方法,其中触媒为一种贵金属触媒,其为铂错合物于醇、二甲苯、二乙烯基矽氧烷、或环乙烯基矽氧烷中。6.如申请专利范围第5项之方法,其中该触媒为Pt(0)二乙烯基四甲基矽氧烷错合物。 |
