发明名称 使用金属氧化物半导体场效应晶体管的保护电路装置及其制造方法
摘要 本发明面临的课题是由于MOSFET芯片上面的电极取出依赖于线焊接,所以就没能找到改善由影响最大的MOSFET芯片的源电极取出电阻引起的导通电阻的解决办法。本发明通过使用MOSFET的保护电路装置,不需要共用漏电极的引回而且源电极直接被固定于导电电路,实现了低的导通电阻,其中,该MOSFET配备有;被电分离的多个导电电路、在所希望的该导电电路上把固定栅电极和源电极的2个功率MOSFET集成在一个芯片上的MOSFET芯片、设置于该MOSFET芯片的共用漏电极上的导电材料、覆盖所述MOSFET芯片并且一体地支持所述导电电路的绝缘树脂。
申请公布号 CN1199531C 申请公布日期 2005.04.27
申请号 CN01111941.1 申请日期 2001.02.15
申请人 三洋电机株式会社 发明人 坂本则明;小林义幸;福田浩和;江藤弘树;高桥幸嗣
分类号 H05K1/18;H01L25/11;H01M10/42 主分类号 H05K1/18
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 邹光新;王忠忠
主权项 1.一种使用MOSFET的保护电路装置,在该保护电路装置中,连接2个MOSFET,由控制器IC对所述两个MOSFET进行开关控制,其特征在于:在绝缘衬底上设置希望的图形的导电电路,在所希望的该导电电路上把在一个芯片上集成所述两个MOSFET的MOSFET芯片的各个栅电极与各个源电极固定,在所述MOSFET芯片的背面设置的共用漏电极上布置导电材料。
地址 日本大阪府