阵列基板之制造方法

摘要

【课题】本发明的目的在于提供生产效率更好，可进行与传统方法相同电气特性的TFT终端处理阵列基板制造方法。【解决手段】本发明系有关阵列基板10的制造方法，乃是在掺杂不纯物的半导体层20蚀刻而曝露出TFT真性半导体层18之后，利用含有氧化剂的溶液进行真性半导体层18的终端处理。为了除去沉积物，这种处理必须包含洗净曝露真性半导体层18的步骤，但不进行传统以电浆做终端处理的步骤。