发明名称 |
偏振薄膜及其制造方法、偏振片以及光学层压体 |
摘要 |
本发明提供一种色斑少的偏振薄膜。一种偏振薄膜,通过包括如下操作的方法制得:依次对聚乙烯醇类薄膜进行膨胀处理、染色处理、硼酸处理以及水洗处理,在硼酸处理工序和/或硼酸处理工序之前的工序中进行单轴拉伸,并进一步在拉伸处理后的各个工序中,分别将施加在上述薄膜上的张力基本保持固定。一种偏振薄膜的制造方法,该方法包括连续地、依次对聚乙烯醇类薄膜进行膨胀处理、染色处理、硼酸处理以及水洗处理,在硼酸处理工序和/或硼酸处理工序之前的工序中进行单轴拉伸,在拉伸处理后的各个工序中,对上述薄膜进行张力控制。结果,可以使薄膜运行稳定,并减少色斑。 |
申请公布号 |
CN1595211A |
申请公布日期 |
2005.03.16 |
申请号 |
CN200410085161.1 |
申请日期 |
2004.09.08 |
申请人 |
住友化学工业株式会社 |
发明人 |
山根尚德;网谷圭二;藤本清二;松元浩二 |
分类号 |
G02B5/30;G02B1/10;B29C55/00 |
主分类号 |
G02B5/30 |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
曹雯;庞立志 |
主权项 |
1.一种偏振薄膜,通过如下操作制得:依次对聚乙烯醇类薄膜进膨胀处理、染色处理、硼酸处理以及水洗处理,在硼酸处理工序和/或硼酸处理工序之前的工序中进行单轴拉伸,并进一步在拉伸处理后的各个工序中,将施加在上述薄膜上的张力分别基本保持恒定。 |
地址 |
日本大阪府 |