发明名称 微细图案形成助剂及其制法
摘要 本发明之课题在于提供过滤性良好,没有涂布缺陷、显影缺陷且经时安定性极佳的一种微细图案形成助剂,使用于该助剂之原料聚合物及其制法。本发明解决问题之技术手段系藉由离子交换处理,将乙缩醛化聚乙烯醇(PVA)等之水溶性改质PVA予以脱金属离子、去氧之后,进行80℃以上之加热处理。藉此,减低改质PVA中之具有重量平均分子量25万以上之高分子量体成分量。将含有加热处理后之改质PVA与交联剂之微细图案形成助剂,涂布于光阻图案3上而形成被覆层4之后,藉由加热光阻图案3与被覆层4,酸从光阻图案3扩散至被覆层。藉由扩散之酸,使光阻图案表面附近之被覆层交联与硬化。藉由将被读层4予以显影,于光阻图案表面具有交联.硬化层 5,且形成具有曝光波长解析度界限以下尺寸之无显影缺陷的孔洞图案。
申请公布号 TW200428166 申请公布日期 2004.12.16
申请号 TW093108220 申请日期 2004.03.26
申请人 克拉瑞国际股份有限公司 发明人 西川雅人;高桥清久
分类号 G03F7/26 主分类号 G03F7/26
代理机构 代理人 何金涂;何秋远
主权项
地址 瑞士