发明名称 增强化学性型之正型光阻组成物
摘要 提供可形成微细光阻图案,且可将该光阻图案之锥形形状角度控制于适度角度,并且可形成焦点深度宽优良之光阻图案的正型光阻组成物。此正型光阻组成物为由增强化学性型的正型光阻组成物所形成,且厚度0.3μm之光阻膜于波长248nm的光线穿透率为20~75%。
申请公布号 TW200428149 申请公布日期 2004.12.16
申请号 TW093106520 申请日期 2004.03.11
申请人 东京应化工业股份有限公司 发明人 新堀博
分类号 G03F7/039 主分类号 G03F7/039
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本