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发明名称
增强化学性型之正型光阻组成物
摘要
提供可形成微细光阻图案,且可将该光阻图案之锥形形状角度控制于适度角度,并且可形成焦点深度宽优良之光阻图案的正型光阻组成物。此正型光阻组成物为由增强化学性型的正型光阻组成物所形成,且厚度0.3μm之光阻膜于波长248nm的光线穿透率为20~75%。
申请公布号
TW200428149
申请公布日期
2004.12.16
申请号
TW093106520
申请日期
2004.03.11
申请人
东京应化工业股份有限公司
发明人
新堀博
分类号
G03F7/039
主分类号
G03F7/039
代理机构
代理人
林志刚
主权项
地址
日本
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