光阻用聚合物及光阻组成物

摘要

一种光阻用聚合物，其为含有具氰基的特定构成单元、具有酸脱离性基的构成单元以及具有内酯架构的特定单元之聚合物，将此光阻用聚合物作为DUV激分子雷射微影技术或电子线微影技术中使用的光阻树脂的情况下，具有高敏感性、高解析度、光阻图案形状良好、线边缘粗糙的产生少、微胶体的产生也较少。