发明名称 | 抛光组合物 | ||
摘要 | 本发明涉及了一种更适于抛光磁盘基质的抛光组合物。此抛光剂抛光组合物含有二氧化硅,含有至少一种选自特殊组中化合物的含磷化合物,含有至少一种由每个具体的酸与氨发生中和反应生成盐的铵盐,过氧化氢和水。 | ||
申请公布号 | CN1536046A | 申请公布日期 | 2004.10.13 |
申请号 | CN200410034215.1 | 申请日期 | 2004.03.30 |
申请人 | 福吉米株式会社 | 发明人 | 平野淳一;松波靖;横道典孝;大胁寿树 |
分类号 | C09G1/02 | 主分类号 | C09G1/02 |
代理机构 | 上海市华诚律师事务所 | 代理人 | 徐申民;董红曼 |
主权项 | 1.一种抛光组合物,其特征在于:二氧化硅;第一化合物,该化合物含有至少一种选自由距磷酸、焦磷酸、多磷酸、偏磷酸、甲基酸式磷酸盐、乙基酸式磷酸盐、乙基乙二醇酸式磷酸盐、肌醇六磷酸、1-羟乙基亚基-1,1-双磷酸、偏磷酸钠和酸性六偏磷酸钠构成的组中的化合物;第二化合物,该化合物含有由正磷酸、焦磷酸、多磷酸、偏磷酸、甲基酸式磷酸盐、乙基酸式磷酸盐、乙基乙二醇酸式磷酸盐、肌醇六磷酸、1-羟乙基亚基-1,1-双磷酸中的每一个通过与铵的中和反应生成的盐中的至少一种盐;过氧化氢;和水。 | ||
地址 | 日本爱知县 |