发明名称 静电吸盘之制造方法
摘要 一种静电吸盘之制造方法,其系形成一第一介电层于一盘本体之静电吸附面,利用金属蒸汽真空弧离子植入技术将低阻抗离子植入该第一介电层,使得该第一介电层之电阻值均匀降低至10些
申请公布号 TW200419693 申请公布日期 2004.10.01
申请号 TW092106477 申请日期 2003.03.20
申请人 庆康科技股份有限公司 发明人 张世丰;林庭正;陈志壕
分类号 H01L21/68 主分类号 H01L21/68
代理机构 代理人 张启威
主权项
地址 新竹市新竹科学工业园区工业东四路五号一楼