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发明名称
光罩,光罩之制造方法及光罩之制造装置
摘要
本发明提供一种光罩,系在HT遮罩的配线图案(1)之白缺陷中心部分,形成有穿透率为0至2%范围内的遮光区域(11)。此外,在邻接遮光区域(11)的区域,且从当有缺陷时的假想图案边缘内侧区域起至其边缘外侧的区域,形成穿透率10至25%范围内的半透明区域(12)。藉此,可获得一种在HT遮罩之缺陷修正中,能增加缺陷修正部分之加工精密度容许限度的光罩。
申请公布号
TW200416822
申请公布日期
2004.09.01
申请号
TW092132108
申请日期
2003.11.17
申请人
瑞萨科技股份有限公司;凸版印刷股份有限公司
发明人
永村美一;丹下耕志;林甲季;池田英广
分类号
H01L21/027
主分类号
H01L21/027
代理机构
代理人
洪武雄;陈昭诚
主权项
地址
日本
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