化学机械研磨垫

摘要

一种用于化学机械研磨之研磨垫，包括基底、形成于该基底之上的众多凸出岛、及形成于该众多凸出岛之间的众多沟槽，其中，该众多凸出岛之形状及排列符合流体动力学，以致于流体流过每一凸出岛后可实质均匀地朝向二侧相邻沟槽分流。凸出岛之角落经过圆化，以进一步降低刮伤。此外，凸出岛之型态比设定在1：2与1：20之间，以致于研磨时能视待研磨物的表面的地形变化而弹性变形，因而实质均匀地研磨该待研磨表面。