发明名称 | 曝光装置 | ||
摘要 | 本发明涉及曝光装置。本发明课题是提供能够得到高照明效率并且能够均匀曝光的曝光装置。在具有光源、从该光源供给光的光积分器、和由经过该光积分器的光照明的2维空间调制元件的曝光装置中,将向光积分器射出光的光纤束端部(174E)设置在光源中,使从射出侧看的光纤束端部(174E)的射出区域(192)具有与光积分器的射出面的轮廓形状大致相似的形状。因此,因为从光纤束端部(174E)射出的光的大部分能够照射在设定的照明区域上,所以能够得到高照明效率并且能够均匀地曝光。 | ||
申请公布号 | CN1517728A | 申请公布日期 | 2004.08.04 |
申请号 | CN200410002928.X | 申请日期 | 2004.01.20 |
申请人 | 富士胶片株式会社 | 发明人 | 大森利彦 |
分类号 | G02B6/00;H04N1/195 | 主分类号 | G02B6/00 |
代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 李香兰 |
主权项 | 1.一种曝光装置,该曝光装置具有光源、从上述光源供给光的光积分器、和由经过上述光积分器的光照明的2维空间调制元件,其特征在于:上述光源是由并排地配列光纤,从上述光纤射出光的光纤束构成的光源,使在从射出侧看的光纤束端部上形成的射出区域的形状和上述光积分器的射出面的轮廓形状具有大致相似的形状。 | ||
地址 | 日本神奈川县 |