发明名称 |
闪存的结构及其操作方法 |
摘要 |
一种闪存的结构,此闪存元件的结构是由P型基底、设置于P型基底中的深N型井区、设置于深N型井区中的P型井区、设置于P型基底上的一对栅极结构、设置于该对栅极结构之间的选择栅极与设置于一对栅极结构两侧的P型井区中的N型源极/漏极区。由于每两个相邻两栅极结构共享一个选择栅极,因此可以增加元件的集成度。 |
申请公布号 |
CN1512590A |
申请公布日期 |
2004.07.14 |
申请号 |
CN02160087.2 |
申请日期 |
2002.12.31 |
申请人 |
力晶半导体股份有限公司 |
发明人 |
洪至伟;宋达;许正源 |
分类号 |
H01L27/112;H01L27/105;H01L21/8246 |
主分类号 |
H01L27/112 |
代理机构 |
北京集佳知识产权代理有限公司 |
代理人 |
王学强 |
主权项 |
1.一种闪存元件的结构,其特征是,该闪存元件的结构包括:一第一导电型基底;一第二导电型第一井区,该第二导电型第一井区设置于该基底中;一第一导电型第二井区,该第一导电型第二井区设置于该第二导电型第一井区中;一对栅极结构,该对栅极结构设置于该第一导电型基底上;一选择栅极,该选择栅极设置于该对栅极结构之间;以及一对第一导电型源极/漏极区,该对第一导电型源极/漏极区分别设置于该对栅极结构两侧的该第一导电型第二井区中。 |
地址 |
台湾省新竹科学工业园区力行一路12号 |