发明名称 闪存的结构及其操作方法
摘要 一种闪存的结构,此闪存元件的结构是由P型基底、设置于P型基底中的深N型井区、设置于深N型井区中的P型井区、设置于P型基底上的一对栅极结构、设置于该对栅极结构之间的选择栅极与设置于一对栅极结构两侧的P型井区中的N型源极/漏极区。由于每两个相邻两栅极结构共享一个选择栅极,因此可以增加元件的集成度。
申请公布号 CN1512590A 申请公布日期 2004.07.14
申请号 CN02160087.2 申请日期 2002.12.31
申请人 力晶半导体股份有限公司 发明人 洪至伟;宋达;许正源
分类号 H01L27/112;H01L27/105;H01L21/8246 主分类号 H01L27/112
代理机构 北京集佳知识产权代理有限公司 代理人 王学强
主权项 1.一种闪存元件的结构,其特征是,该闪存元件的结构包括:一第一导电型基底;一第二导电型第一井区,该第二导电型第一井区设置于该基底中;一第一导电型第二井区,该第一导电型第二井区设置于该第二导电型第一井区中;一对栅极结构,该对栅极结构设置于该第一导电型基底上;一选择栅极,该选择栅极设置于该对栅极结构之间;以及一对第一导电型源极/漏极区,该对第一导电型源极/漏极区分别设置于该对栅极结构两侧的该第一导电型第二井区中。
地址 台湾省新竹科学工业园区力行一路12号