发明名称 位元线的形成方法
摘要 本发明提供一种位元线的形成方法,首先,提供一半导体基底,半导体基底上具有一电晶体,电晶体具有一闸极及一源汲极区;于半导体基底上形成一第一介电层,第一介电层具有一第一开口,第一开口露出源汲极区表面;于第一开口形成一导电层;于第一介电层及导电层表面上形成一阻障层;于阻障层上形成一第二介电层,第二介电层具有一第二开口及一第三开口,第二开口形成于对应第一开口之阻障层上;及于第二开口及第三开口形成一金属层,用以作为一位元线。
申请公布号 TW200411825 申请公布日期 2004.07.01
申请号 TW091138102 申请日期 2002.12.31
申请人 南亚科技股份有限公司 发明人 吴国坚;黄则尧;陈逸男
分类号 H01L21/768 主分类号 H01L21/768
代理机构 代理人 洪澄文;颜锦顺
主权项
地址 桃园县龟山乡华亚科技园区复兴三路六六九号