| 主权项 |
1.一种光罩,属于为在于具有复数之点范围之基板形成图案之光罩,其特征系具备:可透过入射光之光透过部,和实质上不透过光线之光不透过部;前述光透过部或光不透过部乃具有所定形状,该所定形状间一部分重合者。2.如申请专利范围第1项之光罩,其中,前述光透过部或光不透过部之口径为3~15m范围内之値。3.如申请专利范围第1项之光罩,其中,具有口径各为不同的复数之前述光透过部,或口径各为不同的复数之前述光不透过部。4.一种光罩,属于为在于具有复数之点范围之基板形成图案之光罩,其特征系具备:可透过入射光之光透过部,和实质上不透过光线之光不透过部;前述光透过部或光不透过部乃具有所定形状,该所定形状间一部分重合,经由前述光透过部或光不透过部所形成之图案系将复数之点部分做为一单位加以形成的同时,于该一单位内包含成为对称之处所。5.一种附有光反射膜之基板,属于为在于具有复数之点范围之基板形成光反射膜之附有光反射膜之基板,其特征系具备具有凸部或凹部之光反射膜,前述凸部或凹部系具有所定形状的同时,该所定形状间一部分重合者。6.如申请专利范围第5项之附有光反射膜之基板,其中,前述凸部之高度或凹部之深度于面内,实质上相等者。7.如申请专利范围第5项之附有光反射膜之基板,其中,前述复数之凸部或凹部之口径系成为3-15m之范围内之値者。8.如申请专利范围第5项之附有光反射膜之基板,其中,前述复数之凸部或凹部之间隔系成为2~30m之范围内之値者。9.如申请专利范围第5项之附有光反射膜之基板,其中,前述复数之凸部之高度或凹部之深度系成为0.1~10m之范围内之値者。10.如申请专利范围第5项之附有光反射膜之基板,其中,经由前述复数之点所定义之单位,系较前述点范围之数为少,且复数包含前述单位者。11.如申请专利范围第5项之附有光反射膜之基板,其中,具有口径各为不同的复数之前述凸部,或口径各为不同的复数之前述凹部。12.一种附有光反射膜之基板,属于为在于具有复数之点范围之基板形成光反射膜之附有光反射膜之基板,其特征系具备具有凸部或凹部之光反射膜,前述凸部或凹部系具有所定形状的同时,该所定形状间一部分重合,经由前述凸部或凹部所形成之图案系将复数点部介做为一单位加以形成,且于单位内包含对称之处所者。13.一种光电装置,属于为在于具有复数之点范围之光电装置,其特征系具备具有凸部或凹部形成光反射膜之基板,支持于前述基板之光电装置;前述凸部或凹部系具有所定形状的同时,该所定形状间一部分重合者。14.如申请专利范围第13项之光电装置,其中,前述凸部之高度或凹部之深度于面内,实质上相等者。15.如申请专利范围第13项之光电装置,其中,前述复数之点所定义之单位为较前述点范围之数为少,且包含复数个前述单位。16.如申请专利范围第13项之光电装置,其中,经由对应于复数之点而设置各为颜色不同的复数之着色层,和对应此等之复数之点,形成1画素,于前述一单位内至少对应1画素者。17.一种光电装置,属于具有复数之点范围之光电装置,其特征系具备具有凸部或凹部形成光反射膜之基板,支持于前述基板之光电装置;前述凸部或凹部系具有所定形状的同时,该所定形状间一部分重合,经由前述凸部或凹部所形成之图案系将复数点部分做为一单位加以形成,且于单位内包含对称之处所者。18.如申请专利范围第17项之光电装置,其中,经由对应于复数之点而设置各为颜色不同的复数之着色层,和对应此等之复数之点,形成1画素,于前述一单位内至少对应1画素者。19.一种光电装置,其特征系具备光电层,和配置于前述光电层之一方侧的光散乱膜,和配置于前述光电层之另一方侧的光反射膜;于前述光反射膜,形成不规则排列之凸部或凹部,凸部或凹部系具有所定形状的同时,前述所定形状间则一部分重合者。20.如申请专利范围第19项之光电装置,其中,前述光散乱膜之雾度为10%以上60%以下者。21.如申请专利范围第19项之光电装置,其中,具有复数之点范围,经由前述凸部或前述凹部所形成之图案系于经由1点或2点所定义之一单位内,不规则地加以排列,前述光散乱膜之雾度为40%~60%之范围内之値者。22.如申请专利范围第21项之光电装置,其中,经由复数之点范围,和对应此等而设之颜色各为不同的复数着色层,形成1画素,于前述一单位内至少对应1画素者。23.如申请专利范围第19项之光电装置,其中,具有复数之点范围,经由前述凸部或前述凹部所形成之图案系于包含3以上之点的一单位内,不规则地加以排列,前述光散乱膜之雾度为10%~40%之范围内之値者。24.如申请专利范围第19项之光电装置,其中,具备配置于前述一方侧之保护膜。25.一种电子机器,属于将光电装置做为显示部包含之电子机器中,其特征系做为前述光电装置,采用如申请专利范围13项所记载之光电装置。26.一种电子机器,属于将光电装置做为显示部包含之电子机器中,其特征系做为前述光电装置,采用如申请专利范围17项所记载之光电装置。27.一种电子机器,属于将光电装置做为显示部包含之电子机器中,其特征系做为前述光电装置,采用如申请专利范围19项所记载之光电装置。28.一种光反射膜之形成方法,属于在于具有复数之点范围之基材,形成光反射膜之方法,其特征系具备于基材涂布感光性材料的工程,和曝光前述感光性材料之工程,和于前述曝光之感光性材料,形成凹凸之工程,和于前述凹凸上形成光反射膜之工程;前述凹凸系具有所定形状的同时,该所定形状间一部分重合者。29.一种光反射膜之形成方法,属于在于具有复数之点范围之基材,形成光反射膜之方法,其特征系具备于基材涂布感光性材料的工程,和曝光前述感光性材料之工程,和于前述曝光之感光性材料,形成凹凸之工程,和于前述凹凸上形成光反射膜之工程;前述凹凸系具有所定形状的同时,该所定形状间一部分重合,前述凹凸之图案,则将复数点部分做为一单位,且于该单位内包含对称之处所者。30.一种光电装置之制造方法,其特征系将如申请专利范围第28项之光反射膜之形成方法,做为工程加以包含者。31.一种光电装置之制造方法,其特征系将如申请专利范围第29项之光反射膜之形成方法,做为工程加以包含者。图式简单说明:[图1]为了说明本发明之光罩所提供之平面图。[图2]为了说明将1画素(RGB:3点)做为一单位来随机排列光透过部或光不透过部于平面方向之光罩之平面图。[图3]为了说明将2画素(RGB:6点)做为一单位来随机排列光透过部或光不透过部于平面方向之光罩之平面图。[图4]为了说明将3画素(RGB:12点距)做为一单位来随机排列光透过部或光不透过部于平面方向之光罩之平面图。[图5]为了说明不同之光透过部或光不透过部之口径的光罩之平面图。[图6]为了说明光透过部或光不透过部为镜面对称之光罩之平面图。[图7]为包含第1基板及第2基板之光反射膜的剖面图。[图8]由实质上非对称水滴型凸部所成之光反射膜之平面图及剖面图。[图9]显示视觉上之光量与所辨识之角度关系图。[图10]具有开口部之光反射膜之剖面图。[图11]光反射膜之制造工程图。[图12]光反射膜之制造工程之流程图。[图13]为了说明电气性连接于TFT元件之附有光反射膜之基板所提供之剖面图。[图14]为显示被动矩阵方式之液晶显示装置之构成剖面图。[图15]为显示其他之液晶显示装置之构成剖面图。[图16]为显示做为电子机器一例之个人电脑之构成之斜视图。[图17]为做为电子机器一例之行动电话之构成之斜视图。[图18]为由实质上圆锥形之凹部而成之附有光反射膜基板之平面图及剖面图。[图19]由实质上非对称水滴型凹部而成之附有光反射膜基板之平面图及剖面图。[图20]由实质上非对称之金字塔状之凹部而成之附有光反射膜基板之平面图及剖面图。[图21]由实质上水平剖面在小曲率半径之抛物线,由垂直剖面比其曲率半径还大抛物线凹部而成之附有光反射膜基板之平面图及剖面图。[图22]实质上水平剖面为长方型,于垂直方向由角锥状之凹部而成之附有光反射膜基板之平面图及剖面图。[图23]TFD方式之液晶显示装置之分解图。[图24]TFD方式之液晶显示装置之部份剖面图。[图25]TFD方式之液晶显示装置之部份斜视图。[图26]显示以往之液晶显示装置之构成剖面图。[图27]显示以往之液晶显示装置之其他构成剖面图。[图28]以往之液晶显示装置之制造工程图。 |
