发明名称 冷阴极平面灯结构
摘要 一种冷阴极平面灯结构,主要系由一第一板状基材、一第二板状基材、一萤光体、一放电气体以及复数个电极所构成。其中,第一板状基材具有多个凹槽,第二板状基材配置于第一板状基材上,以使各个凹槽构成密闭腔体。萤光体配置于密闭腔体之内壁。放电气体位于各个密闭腔体内,而电极分别配置于各个密闭腔体的两端。由于第一板状基材上具有多个凹槽,故第一板状基材可与第二板状基材直接贴合,在制程上省去玻璃边条的制作,而在结构上不需另行制作间隙物即可强化冷阴极平面灯的强度。伍、(一)、本案代表图为:第 4 图(二)、本案代表图之元件代表符号简单说明:200:冷阴极平面灯210:第一板状基材212:第一凹槽214:密闭腔体220:第二板状基材230:萤光体240:放电气体250:电极
申请公布号 TW594830 申请公布日期 2004.06.21
申请号 TW092107487 申请日期 2003.04.02
申请人 翰立光电股份有限公司 发明人 林世贤;蔡光隆;张正宜;许明富;樊雨心;简瑞峰
分类号 H01J61/00 主分类号 H01J61/00
代理机构 代理人 詹铭文 台北市中正区罗斯福路二段一○○号七楼之一;萧锡清 台北市中正区罗斯福路二段一○○号七楼之一
主权项 1.一种冷阴极平面灯结构,包括:一第一板状基材,具有复数个凹槽;一第二板状基材,配置于该第一板状基材上,以使得该些凹槽成为复数个密闭腔体;一萤光体,配置于该些密闭腔体的部分内壁以及含部内壁其中之一;一放电气体,配置于该些密闭腔体内;以及复数个电极,分别配置于该些密闭腔体之两端。2.如申请专利范围第1项所述之冷阴极平面灯结构,其中该第一板状基材与该第二板状基材之材质包括玻璃。3.如申请专利范围第1项所述之冷阴极平面灯结构,其中该放电气体包括一惰性气体。4.如申请专利范围第3项所述之冷阴极平面灯结构,其中该惰性气体包括氙气、氖气及氩气其中之一。5.如申请专利范围第1项所述之冷阴极平面灯结构,其中该些电极为一金属电极。6.如申请专利范围第5项所述之冷阴极平面灯结构,其中该金属电极包括镍电极、银电极、铜电极、钼电极及铌电极其中之一。7.如申请专利范围第1项所述之冷阴极平面灯结构,其中该些凹槽的延伸方向系平行于该第一板状基材的其中一边缘。8.如申请专利范围第1项所述之冷阴极平面灯结构,其中该些凹槽的延伸方向与该第一板状基材的其中一边缘夹一角度。9.如申请专利范围第1项所述之冷阴极平面灯结构,其中该些凹槽为矩形沟槽及弧形沟槽其中之一。10.如申请专利范围第1项所述之冷阴极平面灯结构,更包括至少一连通凹槽,该连通凹槽配置于该些凹槽之间,以使该些凹槽相互连通。11.如申请专利范围第10项所述之冷阴极平面灯结构,其中该连通凹槽的宽度为0.1mm~10mm且深度为0.1 mm~5mm。12.如申请专利范围第1项所述之冷阴极平面灯结构,其中该第一板状基材之底面为一反射表面。13.如申请专利范围第1项所述之冷阴极平面灯结构,其中该第二板状基材之底面为一扩散表面。14.如申请专利范围第1项所述之冷阴极平面灯结构,更包括一阻抗装置,该阻抗装置配置于该些电极上,且该阻抗装置为电阻、电容及电感其中之一。15.一种冷阴极平面灯结构,包括:一第一板状基材,具有复数个第一凹槽;一第二板状基材,具有复数个第二凹槽,该第二板状基材配置于该第一板状基材上,其中该些第二凹槽系分别对应于该些第一凹槽,以使得该些第一凹槽与该些第二凹槽构成复数个密闭腔体;一萤光体,配置于该些密闭腔体的部分内壁以及全部内壁其中之一;一放电气体,配置于该些密闭腔体内;以及复数个电极,分别配置于该些密闭腔体之两端。16.如申请专利范围第15项所述之冷阴极平面灯结构,其中该第一板状基材与该第二板状基材之材质包括玻璃。17.如申请专利范围第15项所述之冷阴极平面灯结构,其中该放电气体包括一惰性气体。18.如申请专利范围第17项所述之冷阴极平面灯结构,其中该惰性气体包括氙气、氖气及氩气其中之一。19.如申请专利范围第15项所述之冷阴极平面灯结构,其中该些电极为一金属电极。20.如申请专利范围第19项所述之冷阴极平面灯结构,其中该金属电极包括镍电极、银电极、铜电极、钼电极及铌电极其中之一。21.如申请专利范围第15项所述之冷阴极平面灯结构,其中该些第一凹槽及该些第二凹槽的延伸方向系平行于该第一板状基材的其中一边缘。22.如申请专利范围第15项所述之冷阴极平面灯结构,其中该些凹槽及该些第二凹槽的延伸方向与该第一板状基材的其中一边缘夹一角度。23.如申请专利范围第15项所述之冷阴极平面灯结构,更包括至少一连通凹槽,该连通凹槽配置于该些第一凹槽之间,以使该些第一凹槽相互连通。24.如申请专利范围第15项所述之冷阴极平面灯结构,其中该些第一凹槽与该些第二凹槽为矩形沟槽及弧形沟槽其中之一。25.如申请专利范围第15项所述之冷阴极平面灯结构,更包括至少一连通凹槽,该连通凹槽配置于该些第二凹槽之间,以使该些第二凹槽相互连通。26.如申请专利范围第25项所述之冷阴极平面灯结构,其中该连通凹槽的宽度为0.1mm~10mm且深度为0.1 mm~5mm。27.如申请专利范围第15项所述之冷阴极平面灯结构,其中该第一板状基材之底面为一反射表面。28.如申请专利范围第15项所述之冷阴极平面灯结构,其中该第二板状基材之底面为一扩散表面。29.如申请专利范围第15项所述之冷阴极平面灯结构,更包括一阻抗装置,该阻抗装置配置于该些电极上,且该阻抗装置为电阻、电容及电感其中之一。30.一种冷阴极平面灯结构,包括:一波浪状结构体,具有复数个波峰及波谷;一第一板状基材,配置于该些波谷上,以使得该波浪状结构体与该第一板状基材之间成为复数个第一密闭腔体;一第二板状基材,配置于该些波峰上,以使得该些波浪状结构与该第二板状基材之间成为复数个第二密闭腔体;一萤光体,配置于该些第一密闭腔体以及该些第二腔体的部分内壁及全部内壁其中之一;一放电气体,配置于该些第一密闭腔体以及该些第二腔体内;以及复数个电极,分别配置于该些第一密闭腔体以及该些第二腔体之两端。31.如申请专利范围第30项所述之冷阴极平面灯结构,其中该波浪状结构体、该第一板状基材以及该第二板状基材之材质包括玻璃。32.如申请专利范围第30项所述之冷阴极平面灯结构,其中该放电气体包括一惰性气体。33.如申请专利范围第32项所述之冷阴极平面灯结构,其中该惰性气体包括氙气、氖气及氩气其中之一。34.如申请专利范围第30项所述之冷阴极平面灯结构,其中该些电极为一金属电极。35.如申请专利范围第34项所述之冷阴极平面灯结构,其中该金属电极包括镍电极、银电极、铜电极、钼电极及铌电极其中之一。36.如申请专利范围第30项所述之冷阴极平面灯结构,更包括至少一连通凹槽,该连通凹槽配置于该波浪状结构体上,以使该些第一密闭腔体及该些第二密闭腔体相互连通。37.如申请专利范围第36项所述之冷阴极平面灯结构,其中该连通凹槽的宽度为0.1mm~10mm且深度为0.1 mm~5mm。38.如申请专利范围第30项所述之冷阴极平面灯结构,其中该第一板状基材之底面为一反射表面。39.如申请专利范围第30项所述之冷阴极平面灯结构,其中该第二板状基材之底面为一扩散表面。40.如申请专利范围第30项所述之冷阴极平面灯结构,更包括一阻抗装置,该阻抗装置配置于该些电极上,且该阻抗装置为电阻、电容及电感其中之一。图式简单说明:第1图是绘示为习知一种冷阴极平面灯的俯视示意图;第2图是绘示由第1图之剖面线A-A所见的剖面图;第3图是绘示依照本发明第一较佳实施例冷阴极平面灯的俯视示意图;第4图是绘示由第3图之剖面线B-B所见的剖面图;第5图是绘示依照本发明第二较佳实施例冷阴极平面灯的剖面图;第6图是绘示依照本发明第三较佳实施例冷阴极平面灯的俯视示意图;第7图是绘示依照本发明第四较佳实施例冷阴极平面灯的俯视示意图;以及第8图是绘示由第7图之剖面线C-C所见的剖面图。
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