发明名称 粗糙化陶瓷表面的方法
摘要 本发明揭示了一种通过在陶瓷表面形成机械联锁而使陶瓷表面粗糙化的方法,其中机械联锁是通过化学蚀刻、热蚀刻、或使用激光显微机械加工法形成的。本发明还揭示了在半导体处理室中使用的部件(尤其是在PVD室中使用的沉积环),这些部件具有至少一个已经在其上通过化学蚀刻、热蚀刻、和激光显微机械加工形成机械联锁的陶瓷表面。按照本发明的化学蚀刻法、热蚀刻法、和激光显微机械加工法粗糙化的陶瓷表面,与使用传统喷砂技术粗糙化的陶瓷表面相比,脆性和损坏降低。本发明的方法产生了一种对上方牺牲层(例如铝)有良好粘合性的粗糙化的陶瓷表面。
申请公布号 CN1496343A 申请公布日期 2004.05.12
申请号 CN02806155.1 申请日期 2002.11.20
申请人 应用材料有限公司 发明人 E·C·韦尔登;Y·何;H·王;C·C·斯托
分类号 C04B41/91;C04B41/88;C04B41/90;B23K26/40;C23C14/50;H01L21/00 主分类号 C04B41/91
代理机构 北京纪凯知识产权代理有限公司 代理人 赵蓉民;彭益群
主权项 1.一种使陶瓷表面粗糙化的方法,包括使用一种化学蚀刻剂通过掩模对所述陶瓷表面进行图形浸蚀,从而在所述陶瓷表面形成机械联锁。
地址 美国加利福尼亚州