发明名称 碳酸二烷酯的制造方法和装置
摘要 追踪发现到:碳酸二烷酯制造设备下游区域之意料之外的腐蚀源自于氯甲酸烷酯杂质,此杂质缓慢分解产生氢氯酸。用于碳酸二烷酯合成的改良法和设备藉由以物理方式移除或以化学方式分解在设备的耐蚀上游区中的氯甲酸烷酯地减少腐蚀情况。
申请公布号 TW584630 申请公布日期 2004.04.21
申请号 TW091117318 申请日期 2002.08.01
申请人 通用电机股份有限公司 发明人 尤金 波登;甘纳奇 凯雷森;劳瑞 奈尔 里威斯;亚伯特 尼索里;约翰 欧菲利;安琪 桑契士刚萨雷兹;伊格纳西欧 维克费南德兹
分类号 C07C68/00;C07C68/08;C07C69/96 主分类号 C07C68/00
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路二段一二五号七楼
主权项 1.一种制备碳酸二烷酯的方法,其包含: 于温度50至250℃和压力15至35巴,使烷醇、氧、一氧 化碳分别以至少0.5:0.04:0.8之莫耳比和触媒反应,以 形成一包含碳酸二烷酯、氯甲酸烷酯、氢氯酸、 水、二氧化碳和一氧化碳的混合物,该触媒含有一 选自IB、IIB、VIIB和VIIIB过渡元素所组成群之金属; 及 使该混合物于温度30℃至130℃通过流体通道110,停 留时间为0.5小时至10小时。2.如申请专利范围第1 项之方法,其中该烷醇包含C1-C12烷醇。3.如申请专 利范围第1项之方法,其中该烷醇包含一级C1-C6烷醇 。4.如申请专利范围第1项之方法,其中该烷醇包含 甲醇。5.如申请专利范围第1项之方法,其中该烷醇 、该氧和该一氧化碳以(0.5至0.7烷醇):(0.04至0.06氧) :(0.8至1.2一氧化碳)莫耳比反应。6.如申请专利范 围第1项之方法,其中该触媒包含一金属,该金属系 选自铁、铜、镍、钴、锌、钌、铑、钯、银、镉 、铼、锇、铱、铂、金、汞及包含至少一种前述 金属之组合。7.如申请专利范围第1项之方法,其中 该触媒包含铜。8.如申请专利范围第1项之方法,其 中该触媒包含氢氯酸。9.如申请专利范围第1项之 方法,其中该触媒包含莫耳比0.5至1.5的氢氯酸和铜 。10.如申请专利范围第1项之方法,其中该流体通 道110包含热交换器。11.如申请专利范围第1项之方 法,其中该流体通道110包含一个留置槽120。12.如申 请专利范围第1项之方法,其中该流体通道110包含 多个留置槽120。13.如申请专利范围第1项之方法, 其中该流体通道110包含一个长/体积比至少5的区 域。14.如申请专利范围第13项之方法,其中使该混 合物通过该流体通道110包含使该混合物通过至少 一个长/体积比至少5的区域,使得至少50%总停留时 间系花费于该流体通道110中。15.如申请专利范围 第1项之方法,其中尚包含在该反应混合物通过该 流体通道110之前,凝结该混合物。16.如申请专利范 围第1项之方法,其中尚包含自该混合物移除氢氯 酸。17.如申请专利范围第16项之方法,其中该移除 氢氯酸包含将该氢氯酸浓度降至低于110-3莫耳/升 。18.如申请专利范围第16项之方法,其中尚包含在 该移除氢氯酸之前,使该混合物汽化。19.如申请专 利范围第18项之方法,其中使该混合物汽化包含加 热该混合物,降低施于该混合物的压力或二者。20. 如申请专利范围第1项之方法,其中尚包含自该混 合物移除二氧化碳和一氧化碳。21.如申请专利范 围第20项之方法,其中自该混合物移除至少90%该二 氧化碳和至少90%该一氧化碳。22.如申请专利范围 第20项之方法,其中该移除二氧化碳和一氧化碳包 含使该混合物通入多个气-液分离槽。23.如申请专 利范围第22项之方法,其中于第一个压力进行该反 应,且该多个气-液分离槽包含压力在该第一个压 力的10%之内的第一个气-液分离槽及压力小于该第 一个压力的20%的第二个气-液分离槽。24.一种制备 碳酸二烷酯的设备,其包含: 使烷醇、氧、一氧化碳和触媒反应,以形成一包含 碳酸二烷酯、氯甲酸烷酯、氢氯酸、水和二氧化 碳之混合物的设备;及 用以移除氯甲酸烷酯的设备。25.如申请专利范围 第24项之设备,其包含: 使烷醇、氧、一氧化碳和触媒反应,以形成一包含 碳酸二烷酯、氯甲酸烷酯、氢氯酸、水、二氧化 碳和一氧化碳之混合物的反应器50;及 用以自该混合物移除氯甲酸烷酯的流体通道110。 26.如申请专利范围第25项之设备,其中该流体通道 110包含热交换器。27.如申请专利范围第25项之设 备,其中该流体通道110包含留置槽120。28.如申请专 利范围第25项之设备,其中该流体通道110包含多个 留置槽120。29.如申请专利范围第25项之设备,其中 该流体通道110包含长/体积此至少5的区域。30.如 申请专利范围第25项之设备,其中该流体通道110包 含长/体积比至少10的区域。31.如申请专利范围第 25项之设备,其尚包含一与该反应器50和该流体通 道110以液体连通之冷拟器80。32.如申请专利范围 第31项之设备,其尚包含一与该冷凝器80和该流体 通道110以液体连通之气-液分离器。33.如申请专利 范围第25项之设备,其尚包含一与该流体通道110以 液体连通之酸移除管柱160。34.如申请专利范围第 25项之设备,其更包含一与该流体通道110以液体连 通之共沸管柱180。图式简单说明: 附图1是第一个设备例图示。 附图2是认为会被腐蚀的比较用设备简图。 附图3是设备例简图,其中,流体通道110包含两个留 置槽120。 附图4是设备例简图,其中,流体通道110包含四个留 置槽120。 附图5是设备例简图,其中,流体通道110包含管状区 130。 附图6是设备例简图,此设备包含离子交换树脂床 190。 附图7是设备例简图,其中,流体通道110包含第一个 气-液分离器90和第二个气-液分离器100。 附图8是设备例简图,其中,流体通道110在第一个气- 液分离器90之前。 附图9是设备例简图,其中,流体通道110在共沸管柱 180之后。 附图10是共沸管柱180底部的氯化物浓度与设备类 型(附图2和附图3)和时间的关系图。 附图11是在附图3所示设备中,进入和离开流体通道 110的氯甲酸甲酯浓度与时间的关系图。
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