| 主权项 |
1.一种维护喷墨输出装置中喷墨晶片之方法,该喷墨输出装置具有一墨水匣(Cartridge)、一墨水匣承载器(Carrier)、一擦拭器(Wiper)以及一擦拭座(Wiperstage),其中,该墨水匣承载器系用以承载该墨水匣,该擦拭座系用以承载该擦拭器,而该墨水匣内含有墨水且具有一喷墨晶片,该方法包括下列步骤:(a)相对移动该墨水匣承载器至该擦拭座之一侧,使该擦拭器位于可擦拭该喷墨晶片之处;(b)喷洒该墨水匣中之墨水于该擦拭器,以湿润该擦拭器;以及(c)相对地往复移动该擦拭座及该墨水匣承载器,以使该擦拭器擦拭该喷墨晶片。2.如申请专利范围第1项所述之方法,其中,步骤(b)与步骤(c)系重复地进行。3.如申请专利范围第1项所述之方法,其中,步骤(b)与步骤(c)系同时地进行。4.如申请专利范围第1项所述之方法,其中,于步骤(b)与步骤(c)之后,更包括一步骤:(d)停止喷洒墨水,并以该擦拭器擦拭该喷墨晶片。5.如申请专利范围第1项所述之方法,其中,该擦拭器系由一橡胶材料所制成。6.如申请专利范围第1项所述之方法,其中,该喷墨输出装置更具有一驱动马达,系用以使该擦拭座与该墨水匣承载座产生相对运动。7.如申请专利范围第1项所述之方法,其中,于步骤(b),系藉由通入一驱动讯号于该喷墨晶片而喷洒出墨水。8.一种维护喷墨输出装置中喷墨晶片之方法,该喷墨输出装置具有一墨水匣、一墨水匣承载器、一擦拭器以及一擦拭座,其中,该墨水匣具有一喷墨晶片与一储存有清洁剂之储存槽,且该墨水匣承载器系用以承载该墨水匣,该擦拭座系用以承载该擦拭器,该方法包括下列步骤:(a)相对移动该墨水匣承载器至该擦拭座之一侧,使该擦拭器位于可擦拭该喷墨晶片之处;(b)喷洒该清洁剂于该擦拭器以湿润该擦拭器;以及(c)相对地往复移动该墨水匣承载器及该擦拭座,以使该擦拭器擦拭该喷墨晶片。9.如申请专利范围第8项所述之方法,其中,步骤(b)与步骤(c)系重复地进行。10.如申请专利范围第8项所述之方法,其中,步骤(b)与步骤(c)系同时地进行。11.如申请专利范围第8项所述之方法,其中,于步骤(b)与步骤(c)之后,更包括一步骤:(d)停止喷洒该清洁剂,并以该擦拭器擦拭该喷墨晶片。12.如申请专利范围第8项所述之方法,其中,该擦拭器系由一橡胶材料所制成。13.如申请专利范围第8项所述之方法,其中,该喷墨输出装置更具有一驱动马达,系用以使该擦拭座与该墨水匣承载器产生相对运动。14.如申请专利范围第8项所述之方法,其中,于步骤(b),系藉由通入一驱动讯号于该喷墨晶片而喷洒出该清洁剂。15.一种维护喷墨输出装置中喷墨晶片之方法,该喷墨输出装置具有一墨水匣、一墨水匣承载器、一擦拭器以及一擦拭座,其中,该墨水匣承载器系用以承载该墨水匣,该擦拭座系用以承载该擦拭器,而该墨水匣内含有一液体且具有一喷墨晶片,该方法至少包括下列步骤:(a)相对移动该墨水匣承载器及该擦拭座,使该擦拭器位于可擦拭该喷墨晶片之处;以及(b)喷洒该液体于该擦拭器以湿润该擦拭器,并且同时相对地往复移动该擦拭座及该墨水匣承载器,使该擦拭器擦拭该喷墨晶片。16.如申请专利范围第15项所述之方法,其中,该擦拭器之材质系为橡胶材料。17.如申请专利范围第15项所述之方法,其中,该喷墨输出装置更具有一驱动马达,以使该墨水匣承载器与该擦拭座产生相对运动。18.如申请专利范围第15项所述之方法,其中,于步骤(b),系藉由通入一驱动讯号于该喷墨晶片而喷洒出该液体。19.如申请专利范围第15项所述之方法,其中,于步骤(b)之后,更包括一步骤:(c)停止喷洒该液体,并以该擦拭器擦拭该喷墨晶片。图式简单说明:第1图系显示应用本发明之维护喷墨晶片方法之喷墨输出装置;第2图系显示喷墨输出装置中之墨水匣及墨水匣承载器移动至擦拭座之上方;第3图系显示根据第2图之侧视图;第4图系显示一具有喷墨晶片之墨水匣;以及第5图系本发明之维护喷墨晶片方法之流程图。 |
