发明名称 等离子体处理容器的再生方法、等离子体处理容器内部部件、等离子体处理容器内部部件的制造方法以及等离子体处理装置
摘要 在用氧化铝、稀土族氧化物、聚酰亚胺或聚苯并咪唑中任一种喷镀膜覆盖基材表面的等离子体处理容器内部部件的、随着在等离子体中使用而劣化的喷镀膜上,再喷镀与上述喷镀膜同样的材料。由此,能够使因在等离子体中的使用而表面产生劣化的等离子体处理容器再生得如同新品一样。
申请公布号 CN1479801A 申请公布日期 2004.03.03
申请号 CN01820477.5 申请日期 2001.12.07
申请人 东京毅力科创株式会社 发明人 今福光祐
分类号 C23C4/00;C23F4/00 主分类号 C23C4/00
代理机构 北京纪凯知识产权代理有限公司 代理人 龙淳
主权项 1.一种等离子体处理容器的再生方法,其特征在于,在用氧化铝、稀土族氧化物、聚酰亚胺或聚苯并咪唑中的任意一种喷镀膜覆盖基材表面的等离子体处理容器内部部件的、随着在等离子体中使用而劣化的喷镀膜上,再喷镀与所述喷镀膜同样的材料。
地址 日本东京都