发明名称 |
Verfahren zur Einstellung der Einsatzspannung eines Feldeffekttansistors, Feldeffekttransistor sowie integrierte Schaltung |
摘要 |
Bei einem Feldeffekttransistor wird über dem Gate-Dielektrikum (18) ein elektrisches Feld erzeugt, das einen Tunnelstrom durch das Gate-Dielektrikum generiert. Dieser, unterhalb der Durchbruchsladung des Gate-Dielektrikums liegende Tunnelstrom führt zur Bildung von ortsfesten Ladungen in dem Gate-Dielektrikum, durch welche die Einsatzspannung des Feldeffekttransistors verändert werden kann. Damit lassen sich übliche Feldeffekttransistoren programmieren und insbesondere zur Speicherung von Datenwerten verwenden.
|
申请公布号 |
DE10224956(A1) |
申请公布日期 |
2004.01.08 |
申请号 |
DE20021024956 |
申请日期 |
2002.06.05 |
申请人 |
INFINEON TECHNOLOGIES AG |
发明人 |
ZELSACHER, RUDOLF;KOTZ, DIETMAR |
分类号 |
G11C16/04;H01L29/792;(IPC1-7):H01L21/336;H01L27/115 |
主分类号 |
G11C16/04 |
代理机构 |
|
代理人 |
|
主权项 |
|
地址 |
|