发明名称 Verfahren zur Einstellung der Einsatzspannung eines Feldeffekttansistors, Feldeffekttransistor sowie integrierte Schaltung
摘要 Bei einem Feldeffekttransistor wird über dem Gate-Dielektrikum (18) ein elektrisches Feld erzeugt, das einen Tunnelstrom durch das Gate-Dielektrikum generiert. Dieser, unterhalb der Durchbruchsladung des Gate-Dielektrikums liegende Tunnelstrom führt zur Bildung von ortsfesten Ladungen in dem Gate-Dielektrikum, durch welche die Einsatzspannung des Feldeffekttransistors verändert werden kann. Damit lassen sich übliche Feldeffekttransistoren programmieren und insbesondere zur Speicherung von Datenwerten verwenden.
申请公布号 DE10224956(A1) 申请公布日期 2004.01.08
申请号 DE20021024956 申请日期 2002.06.05
申请人 INFINEON TECHNOLOGIES AG 发明人 ZELSACHER, RUDOLF;KOTZ, DIETMAR
分类号 G11C16/04;H01L29/792;(IPC1-7):H01L21/336;H01L27/115 主分类号 G11C16/04
代理机构 代理人
主权项
地址