发明名称 曝光方法及装置
摘要 本发明提供一种曝光方法及装置,其目的,系将用以令支撑光罩及具有感光材之被曝光物之支撑机构移动的驱动机构所承受之物理性负荷予以减低,并将驱动机构制作成简单的结构。本发明之曝光方法,系包含有:使来自曝光用光源之至少部分光源,入射至支撑于支撑机构之光罩的入射步骤;使来自光罩之透过光,由与入射至光罩之光入射方向不同的方向入射至支撑于支撑机构之感光材,并使前述透过光成像于感光材之成像步骤;旋转支撑机构,使来自光源的光得以沿着周方向变化其入射于光罩之照射位置的旋转步骤;在支撑机构之旋转中,使照射到光罩及感光材的光的照射位置,得以在旋转面内,朝着与周方向不同方向变化的照射位置变更步骤。
申请公布号 TW200400419 申请公布日期 2004.01.01
申请号 TW092100665 申请日期 2003.01.10
申请人 液晶先端技术开发中心股份有限公司 发明人 川晋;谷口幸夫;山口弘高;松村正清
分类号 G03F7/20;H01L21/027;H05K3/00 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 洪武雄;陈昭诚
主权项
地址 日本