| 摘要 |
<p>Die Erfindung schafft ein Substrat (600) mit einer Trägerschicht (501). Wobei auf der Trägerschicht (501) eine Isolatorschicht (502) aufgebracht ist, welche mindestens zwei Bereiche mit jeweils unterschiedlicher Dicke aufweist. Auf die Oberfläche der Isolatorschicht (502) ist eine Halbleiterschicht (303) mit FD-Bereich (304) und PD-Bereich (305) aufgebracht, welche eine planare Oberfläche aufweist, wobei die planare Oberfläche die Oberfläche ist, welche der Isolatorschicht (502) entgegengesetzt ist.</p> |
