发明名称 | 点滴结构改良 | ||
摘要 | 一种点滴结构改良,包括有一容置座与一插件;其中,该容置座中间设有一内部中空的立管,该立管周围设有数个对称的凸柱及凸柱上方的小凸柱,该立管与该容置座的座壁间设有一凸部,该凸部中间设有一穿过容置座的出水管,该凸部上并设有数道通过凸部中间且不同深度的沟槽,该容置座的座壁上设有一条带连接着下方塞件的定位部;使用时,首先将插件插入于花盆的泥土,接着将容置座的塞件塞入于凸部的出水管中,同时,定位部会抵住沟槽,接着将容置座以立管置入于装满水的保特瓶内,再将容置度及保特瓶翻转,将容置座上中空立管的内部,套在插件的上端即施行完成。【代表图】:第一图1 容置座 11 立管12凸柱 121 小凸柱13 座壁 14 凸部141 低沟槽 142 中沟槽143高沟槽 15 出水管16 塞件 161 定位部 | ||
申请公布号 | TW547005 | 申请公布日期 | 2003.08.11 |
申请号 | TW091220874 | 申请日期 | 2002.12.23 |
申请人 | 良器有限公司 | 发明人 | 郭锦平 |
分类号 | A01G25/02 | 主分类号 | A01G25/02 |
代理机构 | 代理人 | 吴宏山 台北市内湖区行爱路一七六号三楼 | |
主权项 | 1.一种点滴结构改良,包括一容置座与一插件;其中,该容置座中间设有一内部中空的立管,该立管周围设有数个对称的凸柱,该立管与该容置座的座壁间设有一穿过该容置座底部的出水管,该容置座的座壁上设有一条带连接着下方塞件的定位部;组合时,该插件系以上端套入于该容置座中空的立管内部。2.如申请专利范围第1项所述之一种点滴结构改良,其中,该出水管上方设有一凸部,该凸部上并设有数道通过凸部中间分成低、中、高深度的沟槽。3.如申请专利范围第1项所述之一种点滴结构改良,其中,该立管周围对称的凸柱上设有对称的小凸柱。4.如申请专利范围第1项所述之一种点滴结构改良,其中,该塞件的定位部呈三角形。图式简单说明:第一图为本创作的立体分解图。第二图为本创作的立体组合图。第三图为本创作使用上的实施例示意图。第四A图为本创作塞件置于出水管中使溶液呈低流量的使用示意图。第四B图为本创作塞件置于出水管中使溶液呈中流量的使用示意图。第四C图为本创作塞件置于出水管中使溶液呈高流量的使用示意图。 | ||
地址 | 台北市中山区民生东路二段一四七巷六弄三十一号三楼 |