发明名称 点滴结构改良
摘要 一种点滴结构改良,包括有一容置座与一插件;其中,该容置座中间设有一内部中空的立管,该立管周围设有数个对称的凸柱及凸柱上方的小凸柱,该立管与该容置座的座壁间设有一凸部,该凸部中间设有一穿过容置座的出水管,该凸部上并设有数道通过凸部中间且不同深度的沟槽,该容置座的座壁上设有一条带连接着下方塞件的定位部;使用时,首先将插件插入于花盆的泥土,接着将容置座的塞件塞入于凸部的出水管中,同时,定位部会抵住沟槽,接着将容置座以立管置入于装满水的保特瓶内,再将容置度及保特瓶翻转,将容置座上中空立管的内部,套在插件的上端即施行完成。【代表图】:第一图1 容置座 11 立管12凸柱 121 小凸柱13 座壁 14 凸部141 低沟槽 142 中沟槽143高沟槽 15 出水管16 塞件 161 定位部
申请公布号 TW547005 申请公布日期 2003.08.11
申请号 TW091220874 申请日期 2002.12.23
申请人 良器有限公司 发明人 郭锦平
分类号 A01G25/02 主分类号 A01G25/02
代理机构 代理人 吴宏山 台北市内湖区行爱路一七六号三楼
主权项 1.一种点滴结构改良,包括一容置座与一插件;其中,该容置座中间设有一内部中空的立管,该立管周围设有数个对称的凸柱,该立管与该容置座的座壁间设有一穿过该容置座底部的出水管,该容置座的座壁上设有一条带连接着下方塞件的定位部;组合时,该插件系以上端套入于该容置座中空的立管内部。2.如申请专利范围第1项所述之一种点滴结构改良,其中,该出水管上方设有一凸部,该凸部上并设有数道通过凸部中间分成低、中、高深度的沟槽。3.如申请专利范围第1项所述之一种点滴结构改良,其中,该立管周围对称的凸柱上设有对称的小凸柱。4.如申请专利范围第1项所述之一种点滴结构改良,其中,该塞件的定位部呈三角形。图式简单说明:第一图为本创作的立体分解图。第二图为本创作的立体组合图。第三图为本创作使用上的实施例示意图。第四A图为本创作塞件置于出水管中使溶液呈低流量的使用示意图。第四B图为本创作塞件置于出水管中使溶液呈中流量的使用示意图。第四C图为本创作塞件置于出水管中使溶液呈高流量的使用示意图。
地址 台北市中山区民生东路二段一四七巷六弄三十一号三楼