发明名称 |
外延生长用气体的供给方法及其装置 |
摘要 |
外延生长用气体的供给方法及其装置。在气化器19中将液体原料加热至该液体的沸点以上的温度以使其气化,将气化的原料气与载气在混合器43中按预定的浓度混合,将该混合气在其露点以上的温度下加热保温,同时调节该温合气的流量,然后在将该混合气加热保温在其露点以上温度的条件下供入外延生长用反应炉51中。在气化器内将加热介质的温度保持恒定以使液体原料气化,根据气化器内的气压来调节供入气化器内的液体原料的供给量,这样能够将气化器的液位经常地保持恒定。 |
申请公布号 |
CN1113977C |
申请公布日期 |
2003.07.09 |
申请号 |
CN98116646.6 |
申请日期 |
1998.07.29 |
申请人 |
三菱硅材料株式会社;三菱综合材料多晶硅股份有限公司 |
发明人 |
远山美晴;黑田明寿;木山德二 |
分类号 |
C23C16/44;C30B25/14 |
主分类号 |
C23C16/44 |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 |
代理人 |
杨宏军 |
主权项 |
1.一种外延生长用气体供给方法,该方法包括下列工序:在气化器中将液体原料加热至上述液体的沸点以上的温度以使其气化的工序;一边将被上述气化器气化的原料气在其露点以上的温度下加热保温,一边调节上述原料气流量的工序;一边将上述调节好流量的原料气在其露点以上的温度下加热保温,一边将其供给到外延生长用反应炉中的工序。 |
地址 |
日本东京 |