| 发明名称 |
Verfahren zur Ablagerung einer dielektrischen Ta2O5-Schicht |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
DE69811800(D1) |
申请公布日期 |
2003.04.10 |
| 申请号 |
DE1998611800 |
申请日期 |
1998.07.06 |
| 申请人 |
FRANCE TELECOM, PARIS |
发明人 |
BERENGUER, MARC;DEVINE, RODERICK |
| 分类号 |
C23C16/02;C23C16/40;H01L21/02;(IPC1-7):C23C16/40;H01L21/316 |
主分类号 |
C23C16/02 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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