| 发明名称 | 旋转处理装置 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种旋转处理被处理物的旋转处理装置，其构成为：由下罩和可以上下自由运动的上罩构成罩体，上罩和下罩之间有一定的间隙；罩体内装有保持被处理物的旋转件；有驱动旋转件转动的驱动装置；及在下罩的底部，连接有进行罩内排气的排气管；其特征为：在上罩内周面装有保持在旋转件上的被处理物周围的飞散防止盖；所述飞散防止盖作成环状，其下端位于旋转件上，比保持的被处理物的上面高，且所述飞散防止盖的下端向径向的外方曲折。 | ||
| 申请公布号 | CN1097490C | 申请公布日期 | 2003.01.01 |
| 申请号 | CN97199723.3 | 申请日期 | 1997.11.12 |
| 申请人 | 芝浦机械电子装置股份有限公司;株式会社东芝 | 发明人 | 土井敏;黑川祯明;樱井直明 |
| 分类号 | B08B3/02;H01L21/304 | 主分类号 | B08B3/02 |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 朱登河;顾红霞 |
| 主权项 | 1.一种旋转处理被处理物的旋转处理装置，其构成为：由下罩和可以上下自由运动的上罩构成罩体，上罩和下罩之间有一定的间隙；罩体内装有保持被处理物的旋转件；有驱动旋转件转动的驱动装置；及在下罩的底部，连接有进行罩内排气的排气管；其特征为：在上罩内周面装有保持在旋转件上的被处理物周围的飞散防止盖；所述飞散防止盖做成环状，其下端位于旋转件上，比保持的被处理物的上面高，且所述飞散防止盖的下端向径向的外方曲折。 | ||
| 地址 | 日本神奈川县 | ||