发明名称 斜切底材上的半导体发光二极管
摘要 一种以化合物半导体材料制成的发光二极管,它包括发射光的具有多重量子井结构的主动区域,主动区域被上下两层的InGaAlP与上层的包覆层夹持包覆。InGaAlP的外延层是用有机金属气相外延法(OMVPE)在GaAs底材上以倾斜角度<111>;A形成,一斜切底材与较低层包覆层的电性相同。较高层包覆层的上面有第二种导电性的光线穿透层即电流扩散层,供电流扩散与发射光线的扩展。光线穿透层包括一个壅塞层、一个晶格梯度层及对于入射光线其能阶是透明的窗户层。
申请公布号 CN1377095A 申请公布日期 2002.10.30
申请号 CN01112063.0 申请日期 2001.03.23
申请人 洲磊科技股份有限公司 发明人 郭立信;许靖豪;吴伯仁;许文士
分类号 H01L33/00 主分类号 H01L33/00
代理机构 上海专利商标事务所 代理人 任永武
主权项 1.一种发光二极管,其特征在于,它至少包括:一金属接触底座;一第一导电型GaAs底材,它在所述金属接触底座上面,所述底材沿<111>A角度斜切,所述斜切角度大于10°;一所述第一导电型InGaAlP层,它位于所述底材上面;一主动层,它位于所述第一导电型InGaAlP层上面,所述主动层无原子次序;一第二导电型InGaAlP层,它位于所述主动层上面,其电性与所述第一导电型InGaAlP层相反;一窗户层,它位于所述第二导电型InGaAlP层上面;以及一金属接触顶座,它位于所述窗户层上面。
地址 台湾省桃园县龟山乡山顶村山莺路165号