发明名称 化学增强的光刻胶
摘要 通过解决由光吸收引起的圆锥状光刻胶图形的问题,提供具有良好分辨率、聚焦和尺寸精度的化学增强的光刻胶,并同时产生高的热稳定性和对干法刻蚀的足够的抗蚀性,将具有芳环的树脂加入到含有一种脂环丙烯酸聚合物和一种光酸发生剂的化学增强的光刻胶中。该具有芳环的树脂最好为多羟苯乙烯聚合物、酚醛清漆聚合物或t-BOC保护的多羟苯乙烯聚合物。这些聚合物最佳的加入量为1至10重量份比100重量份的基质聚合物。
申请公布号 CN1090342C 申请公布日期 2002.09.04
申请号 CN98100895.X 申请日期 1998.03.10
申请人 日本电气株式会社 发明人 井谷俊郎
分类号 G03F7/033 主分类号 G03F7/033
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 代理人 卢纪
主权项 1、一种化学增强的光刻胶,它含有一种脂环丙烯酸聚合物和一种光酸发生剂,其特征在于:每100重量份所述脂环丙烯酸聚合物中加入1-10重量份的具有芳环的树脂,所述的具有芳环的树脂为酚醛清漆聚合物、具有一种微碱溶性保护基团的多羟苯乙烯聚合物中的至少一种,其平均分子量为8000-30000,193nm的透光性为40-70%/μm。
地址 日本国东京都