| 摘要 |
Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Erzeugung von Reinstwasser für eine Anlage zur Halbleiterfertigung, welche eine Anordnung mehrerer Fertigungseinheiten (1) aufweist. Bei dem Verfahren zur Erzeugung von Reinstwasser wird in einer ersten Reinigungsstufe Rohwasser in der für die Anlage insgesamt benötigten Menge vorgereinigt und aufbereitet. In einer zweiten Reinigungsstufe wird in mehreren Endreinigungseinheiten (8), welche jeweils wenigstens einer der Fertigungseinheiten (1) zugeordnet sind, aus aufbereitetem Wasser Reinstwasser gewonnen. Erfindungsgemäß wird in verschiedenen Endreinigungseinheiten (8) Reinstwasser unterschiedlicher Qualität gewonnen, wobei die Qualität jeweils durch Prozeßparameter derjenigen Fertigungseinheiten (1) bestimmt ist, denen die Endreinigungseinheit (8) zugeordnet ist. Dadurch können unterschiedliche Fertigungseinheiten (1) individuell mit Reinstwasser der jeweils ausreichenden Qualität versorgt werden, wodurch Aufwand und Kosten für die Reistwassergewinnung gesenkt werden. |
