| 主权项 |
1.一种用于引导一洗净气体至一基材之边缘的装置,其至少包括:一基材支撑,定义出一基材接收表面;一洗净元件,置于该基材支撑上;一空间,形成于该洗净元件及该基材支撑之间,其中该空间接受来自一气体来源之该洗净气体,且引导该洗净气体至该基材之边缘;以及一固定器,可松开地将该洗净元件与该基材支撑固定在一起。2.如申请专利范围第1项所述之装置,其中该固定器包括:至少一夹子;一轴钉,用于每一夹子;该至少一夹子、该支撑元件以及该洗净元件具有一个钻孔形成于其中,藉以可松开地接收该轴钉;以及该轴钉可松开地穿过该至少一个夹子、该支撑元件以及该洗净元件插入该钻孔中。3.如申请专利范围第1项所述之装置,其中该固定器包括:至少一轴钉;该支撑元件及该洗净元件具有一钻孔形成于其中,藉以可松开地接收一轴钉;该轴钉可松开地穿过该支撑元件与洗净元件插入该钻孔中。4.如申请专利范围第1项所述之装置,其中该固定器包括至少一夹子。5.如申请专利范围第2项所述之装置,更包括一狭槽,形成在洗净元件中,用于每一夹子,其中该狭槽可松开地接收至少一夹子。6.如申请专利范围第2项所述之装置,其中该基材支撑、该洗净元件、该至少一夹子及该轴钉皆为陶瓷制成。7.如申请专利范围第2项所述之装置,其中该基材支撑更包括上升轴钉,其中该上升轴钉将该基材从该基材支撑的上层表面升高。8.如申请专利范围第2项所述之装置,其中该洗净元件具有至少一孔洞,藉以可松开地接收一暗环。9.如申请专利范围第2项所述之装置,其中该基材支撑更包括一加热器元件置于该基材支撑之内侧,其中该基材支撑作用如同一加热器面板,藉以保持该基材所需之温度。10.如申请专利范围第9项所述之装置,其中该基材支撑更外包括一真空埠,形成于该基材支撑之上层表面上。11.如申请专利范围第10项所述之装置,其中该基材支撑更包括:突起区域,在该基材之上层表面上,其中该突起区域支撑该基材;以及凹下区域,在该基材之上层表面上,其中该凹下区域使用与该真空埠连接。12.一种用于引导一洗净气体至一基材之边缘的装置,其至少包括:一基材支撑,定义出一基材支撑表面;一洗净元件,置于该基材支撑上;一空间,形成于该洗净元件及该基材支撑之间,其中该空间接收从一气体来源之该洗净气体,并且引导该洗净气体至该基材之边缘;三个夹子;三个轴钉;该些夹子、该支撑元件以及该洗净元件具有钻孔形成于其中,藉以可松开地接收该些轴钉;以及该些轴钉可松开地穿过该些夹子、该支撑元件以及该洗净元件插入该钻孔中。13.一种用于处理一基材之真空反应室,其至少包括:一基材支撑,定义出一基材接收表面;一洗净元件,置于该基材支撑上;一空间,形成于该洗净元件及该基材支撑之间,其中该空间接收从一气体来源之该洗净气体,并且引导该洗净气体至该基材的边缘;以及一固定器,可松开地将该洗净元件及该基材支撑固定在一起。14.如申请专利范围第13项所述之真空反应室,其中该固定器至少包括:至少一夹子;一轴钉,用于每一夹子;该至少一夹子、该支撑元件以及该洗净元件具有一钻孔形成于其中,藉以可松开地接收一轴钉;该轴钉可松开地穿过该至少一夹子、该支撑元件及该洗净元件插入该钻孔中;以及一个狭槽,形成于该洗净元件中,用于每一夹子,其中该狭槽可松开地接收该至少一夹子。15.如申请专利范围第14项所述之真空反应室,其中该基材支撑是一加热器基座。16.如申请专利范围第15项所述之真空反应室,其中该真空反应室为化学气相沉积反应室。17.如申请专利范围第16项所述之真空反应室,其中该反应室更包括一RF来源。18.如申请专利范围第17项所述之真空反应室,其中该加热器基座、该洗净元件、该至少一夹子以及该轴钉由陶瓷制成。19.如申请专利范围第18项所述之真空反应室,其中该反应室沉积钨。20.如申请专利范围第14项所述之真空反应室,其中该洗净元件具有至少一孔洞,藉以可松开地接收一暗环。图式简单说明:第1图是本发明装置之透视图。第2图是第1图之固定装置之分解透视图。第3图是第1图中固定装置沿剖面线3-3之侧视剖面图。 |
