| 主权项 |
1.一种分析存在于气体中之污染物的方法,包含以下各步骤:(a)在大气压下将载气之微粒离子化;(b)使该载气之离子化的该微粒与待测气体的微粒碰撞,从而在大气压下将存在于该待测气体中的有机污染物的微粒离子化;与(c)藉由质谱分析法分析存在于该待测气体中之该污染物的离子化的该微粒,从而监定该污染物与得到该污染物的浓度;其中该待测气体包含水分子;且其中该载气包含一种组成分其分子的离子化电压低于水分子者而高于该污染物者;且其中该载气的该组成分在步骤(a)中被选择性离子化2.依申请专利范围第1项之方法,其中使用氧气作为该载气,而该组成分为该氧气本身。3.依申请专利范围第1项之方法,其中使用氢气与矽烷气体的混合气体作为该载气,而该组成分为矽烷气体本身。4.依申请专利范围第3项之方法,其中该混合气体中该矽烷气体的浓度范围在可万分之一(1/1,000,000)莫耳至千分之一(1/1,000)莫耳之间。5.依申请专利范围第1项之方法,其中使用氮气与矽烷气体的该混合气体作为该载气,而该组成分为矽烷气体本身。6.依申请专利范围第5项之方法,其中该混合气体中该矽烷气体的浓度范围介于百万分之一(1/1,000,000)莫耳至千分之一(1/1,000)莫耳之间。7.依申请专利范围第1项之方法,其中使用空气作为该待测气体。8.依申请专利范围第1项之方法,其中该有机污染物包含胺类。图式简单说明:第一图为显示依照本发明第实施例中分析存在于气体中之有机污染物的方法步骤的流程图。第二图为显示依照本发明第一实施例中用以执行此方法的设备的方块图。 |
