| 发明名称 |
A METHOD AND APPARATUS FOR INTEGRATING A METAL NITRIDE FILM IN A SEMICONDUCTOR DEVICE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
SG83817(A1) |
申请公布日期 |
2001.10.16 |
| 申请号 |
SG20000005483 |
申请日期 |
2000.09.22 |
| 申请人 |
APPLIED MATERIALS, INC. |
发明人 |
PRAVIN NARWANKAR;TURGUT SAHIN |
| 分类号 |
C23C16/34;C23C16/40;C23C16/46;H01L21/02;H01L21/28;H01L21/285;H01L21/31;H01L21/316;H01L21/768;H01L21/8242;H01L27/108;H01L29/423;H01L29/43;H01L29/49;H01L29/78;(IPC1-7):C23C16/44;H01L21/318 |
主分类号 |
C23C16/34 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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