发明名称 METHOD FOR RAW ETCHING SILICON SOLAR CELLS
摘要 <p>Die vorliegende Erfindung betrifft ein neues Verfahren zur Herstellung von strukturierten Oberflächen auf multikristallinen, trikristallinen und monokristallinen Siliziumoberflächen von Solarzellen oder auf Siliziumsubstraten, welche für photovoltaische Zwecke angewendet werden. Sie betrifft insbesondere ein Ätzverfahren sowie ein Ätzmittel zur Herstellung einer strukturierten Oberfläche auf einem Siliziumsubstrat.</p>
申请公布号 WO0147032(A1) 申请公布日期 2001.06.28
申请号 WO2000EP12328 申请日期 2000.12.07
申请人 MERCK PATENT GMBH;KUEBELBECK, ARMIN;ZIELINSKI, CLAUDIA;GOELZENLEUCHTER, THOMAS 发明人 KUEBELBECK, ARMIN;ZIELINSKI, CLAUDIA;GOELZENLEUCHTER, THOMAS
分类号 C09K13/06;C09K13/08;H01L21/306;H01L31/0236;H01L31/18;(IPC1-7):H01L31/023;H01L21/321 主分类号 C09K13/06
代理机构 代理人
主权项
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