发明名称 | 用于生产有取向的压电薄膜的方法 | ||
摘要 | 呈现良好的压电效应的高度取向的薄的膜片在反应室中形成。这是通过轰击包含压电材料的靶来实现的。从该靶中被撞出的粒子被电离,然后静电吸引到基片表面,在那里,它们被中和并以一种有序方式被沉积。 | ||
申请公布号 | CN1291825A | 申请公布日期 | 2001.04.18 |
申请号 | CN00121971.5 | 申请日期 | 2000.07.27 |
申请人 | 朗迅科技公司 | 发明人 | 哈罗德·A·哈金斯 |
分类号 | H03H3/00;H03H9/54;H01L41/22 | 主分类号 | H03H3/00 |
代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 罗亚川 |
主权项 | 1.一种用于沉积压电材料薄膜的方法,所述方法包含以下步骤:电离将被沉积在基片表面的压电材料的粒子,以及将所述被电离的粒子静电吸引到所述基片的表面以便在其上形成薄膜。 | ||
地址 | 美国新泽西州 |