| 主权项 |
1.一种制备下式化合物之方法 式中R1H为医药可接受性酸,系选自R4SO3H,R4PO3H及YH其 中 R4系选自(C1-C6)烷基及经选择性取代之苯基或基, 其中该取代基为(C1-C6)烷基;及 Y系选自Cl、HSO4.NO3.HPO3H 与PO4, 该方法包括以一金属与一具有通式R1H的酸(其中R1H 定义如上)处理下式化合物 [式中R2为(C1-C6)烷基,芳基(C1-C6)烷基或氢及R3为NO2], 以得到具有通式Ⅰ的化合物; 或者 以一还原剂处理具有通式Ⅱ之化合物,以形成一具 有通式ⅢA的化合物, 该还原剂可为 (i)一金属与一具有上述之通式R1H的酸, 或者 (ii)在一催化剂存在之下,该还原剂可为氢, 而后使用相同或不同于还原步骤之通式R1H化合物, 来处理该于上述步骤(i)或(ii)所形成之 具有通式ⅢA的化合物,以形成具有通式Ⅰ之化合 物。2.如申请专利范围第1项之方法,其中该还原剂 为氢气。3.如申请专利范围第1项之方法,其中该金 属为锌,且该酸系选自HCl及甲烷磺酸。4.如申请专 利范围第3项之方法,其中该酸为甲烷磺酸。5.如申 请专利范围第1项之方法,其中该式Ⅱ化合物系经 由具有通式Ⅳ之化合物与具有下列 通式之化合物起反应而制得 其中R2定义如上及J为离去基。6.如申请专利范围 第5项之方法,其中J系选自氯及溴。7.如申请专利 范围第6项之方法,其中J为氯。8.如申请专利范围 第5项之方法,其中该方法系于酸清除剂存在下进 行。9.如申请专利范围第5项之方法,其中式Ⅳ化合 物系藉由N-去烷化剂处理具有下列通式之化 合物而制得, 式中R系选自(C1-C6)烷基或(C6-C10)芳基,其中该芳基 视需要可为一或多个分别选自卤原子 ,硝基,(C1-C6 )烷基,(C1-C6)烷氧基,胺基及三氟甲基之 取代基所取代,其中当R为基 或(C1-C6)烷基时,该N-去烷化剂系为氯甲酸-氯乙 酯;或于R为基时,该N-去烷化剂为 氢。10.如申请专利范围第9项之方法,其中R为基 。11.如申请专利范围第9项之方法,其中R为甲基。 12.如申请专利范围第9项之方法,其中R为基及去 烷化剂为氯甲酸-氯乙酯。13.如申请专利范围第 9项之方法,其中该具有通式Ⅴ之化合物系经由使 用还原剂处理具有下 列通式化合物所制得的 式中R系选自(C1-C6)烷基或(C6-C10) 芳基,其中该芳基 视需要为以一或多个分别选自卤 原子,硝基,(C1-C6)烷基,(C1-C6)烷氧基,胺基及三氟甲 基之取代基取代。14.如申请专利范围第9项之方法 ,其中该具有通式Ⅵ化合物系藉由在1,2-二甲基-1,4, 5,6- 四氢嘧啶存在下,使用式X-CH2-NO2(其中X为离去基)处 理具有下通式之化合物而制得的 式中R系选自(C1-C6)烷基或(C6-C10)芳基,其中该芳基 视需要可以一或多个分别选自卤原子 ,硝基,(C1-C6 )烷基,(C1-C6)烷氧基,胺基及三氟甲基之 取代基取代。15.如申请专利范围第17项之方法,其 中R为基。16.如申请专利范围第17项之方法,其中 R为甲基。17.如申请专利范围第17项之方法,其中X 为氯或溴。18.如申请专利范围第20项之方法,其中X 为溴。19.如申请专利范围第17项之方法,其中该方 法系于约-78℃至约80℃之温度进行。20.如申请专 利范围第17项之方法,其中试方法系于选自苯,甲苯 ,二甲基甲醯胺或四氢 喃之溶剂内进行。21.如申请专利范围第21项之方 法,其中该溶剂为甲苯。22.一种制备如申请专利范 围第1项所述之式Ⅰ化合物的方法,其包括下列步 骤: a)硷存在下,使用式X-CH2-NO2化合物(其中X为离去基) 于处理具有通式Ⅶ之化合物,以生成 具有通式Ⅵ之化合物,然后以还原剂处理所生成之 具有通式Ⅵ的化合物,以形成具有通式Ⅴ 的化合物; b)使用去烷化剂处理具有通式Ⅴ之化合物,以生成 具有通式Ⅳ之化合物; c)使用具有下列通式之化合物处理具有通式Ⅳ之 化合物 式中R2之定义如上及J为适当离去基而生成式Ⅱ化 合物;及 d)于催化剂或金属与式R1H之酸(定义如上)存在下, 使用包括氢之还原剂来处理具有通式Ⅱ 之化合物, i)当在如上定义之酸R1H存在下进行氢化反应,或R1H 为式YH或R4SO4H化合物(其中Y及R4定义 如上)时,系生成以生成具有通式Ⅰ之化合物;或 ii)生成式Ⅱ化合物(其中R3为NH2,然后使用具有式R1H 化合物(其可与还原步骤之R1H相同或 相异)或式R4CO2H化合物(其中R4之定义如上)处理该 化合物,以生成式Ⅰ化合物。23.如申请专利范围第 23项之步骤a)之方法,其中该硷为1,2-二甲基-1,4,5,6- 四氢嘧啶。24.如申请专利范围第23项之步骤b)之方 法,其中该去烷化剂于R为基或(C1-C6)烷基时为 氯甲酸-氯乙酯或于R为基时为氢。25.如申请 专利范围第25项之步骤d)之方法,其中该酸为烷磺 酸。26.如申请专利范围第26项之方法,其中该酸为 甲烷磺。27.如申请专利范围第26项之方法,其中该 金属为锌。28.一种下式化合物29.一种下式化合物 其中R2之定义如上。30.如申请专利范围第1项之方 法,其中该还原剂系选自a)金属与如上定义之式R1H 酸之组合 ,或b)氢/阮尼镍。31.如申请专利范围第23项之步骤 ii)之方法,其中该还原剂系选自a)金属与如上定义 之式 R1H酸之组合,或b)氢/阮尼镍。 |
