| 发明名称 |
LARGE-APERTURED PROJECTION LENS WITH MINIMAL DIAPHRAGM ERROR |
| 摘要 |
Bei einem hochaperturigen Projektionsobjektiv (5) der Mikrolithographie wird systematisch auch der Blendenfehler korrigiert, so dass die Pupillenebene wenig gekrümmt ist und das Objektiv ohne Qualitätsverlust abblendbar ist. Bei dem Projektionsobjektiv wird die Systemblende im Bereich der bildseitig letzten Linsengruppe positiver Brechkraft angeordnet. Das Projektionsobjektiv weist bei Abblendung eine stabile bildseitige Telezentrie auf.
|
| 申请公布号 |
WO0033138(A1) |
申请公布日期 |
2000.06.08 |
| 申请号 |
WO1999EP09235 |
申请日期 |
1999.11.27 |
| 申请人 |
CARL ZEISS;CARL ZEISS STIFTUNG TRADING AS CARL ZEISS;SCHUSTER, KARL-HEINZ;ULRICH, WILHELM |
发明人 |
SCHUSTER, KARL-HEINZ;ULRICH, WILHELM |
| 分类号 |
G02B13/24;G02B13/14;G02B13/18;G02B13/22;G03F7/20;H01L21/027;(IPC1-7):G03F7/20 |
主分类号 |
G02B13/24 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
