发明名称 Fotochemisches Trocken-Ätzverfahren
摘要
申请公布号 DE69229470(T2) 申请公布日期 2000.01.05
申请号 DE19926029470T 申请日期 1992.12.08
申请人 RESEARCH DEVELOPMENT CORP. OF JAPAN, TOKIO/TOKYO;NISHIZAWA, JUNICHI;KAWATETSU MINING CO., LTD. 发明人 NISHIZAWA, JUN-ICHI;YAMAMOTO, KENJI
分类号 H01L21/302;H01L21/203;H01L21/268;H01L21/306;(IPC1-7):H01L21/306 主分类号 H01L21/302
代理机构 代理人
主权项
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