| 摘要 |
본 발명은 특히 EUV-마이크로리소그래피용 축소 오브젝티브에 관한 것으로, 상기 오브젝티브는 - 광학축에 대해 중심 배치된 4 개의 다층 미러, 빔 경로 내에 순서대로 배치된 제 1 미러, 제 2 미러, 제 3 미러, 제 4 미러를 포함하고, - 스캐닝 작동에 적합한 링 필드를 포함하며, - 암흑화 (obscuration) 가 없는 광가이드를 포함한다. 본 발명은 - 제 1 볼록 미러, - 제 2 미러의 포지티브한 메인 빔 각도의 확대를 특징으로 한다. |
