发明名称 |
METHOD FOR PRODUCING RESONANT FILTERS |
摘要 |
Es wird ein Verfahren zur Herstellung von resonanten Filtern vorgeschlagen, bei dem ein für einen gewünschten Wellenlängenbereich transparentes Substrat mit einem dünnen Metallfilm beschichtet wird, ein Photoresist auf den dünnen Metallfilm aufgebracht wird, der Photoresist mit periodischen Strukturelementen bzw. mit invertierten periodischen Strukturelementen holographisch belichtet wird und der Photoresist entwickelt wird, der freiliegende Metallfilm entsprechend dem vorgegebenen Muster abgeätzt wird, wobei der verbleibende Photoresist als Ätzmaske wirkt, oder galvanisch verstärkt wird, und der Photoresist entfernt wird. In einem weiteren Verfahren wird das Substrat mit einer Photoresistschicht versehen, die Photoresistschicht holographisch belichtet und entwickelt, die gesamte Anordnung mit einer Metallschicht bedampft und der Photoresist abgelöst, wobei auch die Metallschicht an den Stellen des Photoresists abgehoben wird.
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申请公布号 |
WO9952001(A1) |
申请公布日期 |
1999.10.14 |
申请号 |
WO1999EP02367 |
申请日期 |
1999.04.06 |
申请人 |
FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FOERDERUNG DER ANGEWAN;GOMBERT, ANDREAS;HEINZEL, ANDREAS;WITTWER, VOLKER;ZANKE, CHRISTEL;BOERNER, VOLKMAR |
发明人 |
GOMBERT, ANDREAS;HEINZEL, ANDREAS;WITTWER, VOLKER;ZANKE, CHRISTEL;BOERNER, VOLKMAR |
分类号 |
G02B5/20;(IPC1-7):G02B5/20 |
主分类号 |
G02B5/20 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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