| 发明名称 |
Method and device for analytical monitoring of a bath for the electroplating treatment of substrate surfaces |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
GB2327126(B) |
申请公布日期 |
1999.09.08 |
| 申请号 |
GB19980013732 |
申请日期 |
1998.06.26 |
| 申请人 |
* ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH |
发明人 |
MARJAN * BELE;JURGEN OTTO * BESENHARD;STANE * PEJOVNIK;HEINRICH * MEYER |
| 分类号 |
G01N27/26;C25D3/02;C25D5/54;C25D21/12;G01N27/60;G01N31/16;H05K3/00;H05K3/38;H05K3/42;(IPC1-7):G01N27/60 |
主分类号 |
G01N27/26 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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