发明名称 ANTISTATIC THERMALLY STABILIZED HALOGEN-CONTAINING RESIN COMPOSITION
摘要
申请公布号 KR100209442(B1) 申请公布日期 1999.07.15
申请号 KR19910022033 申请日期 1991.12.03
申请人 KYOWA CHEMICAL INDUSTRY CO., LTD. 发明人 NOSU, TSUTOMU;NAGAE, YOSHIYUKI
分类号 C08K3/18;C08K3/24;C08K3/26;C08K5/00;C08K5/07;C08K5/09;C08K5/57;C08K13/02;C08L27/04;C08L27/06;(IPC1-7):C08L27/24 主分类号 C08K3/18
代理机构 代理人
主权项
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